Норвежский стартап Lace Lithography, который поддерживается Microsoft, как сообщает агентство Reuters, привлёк 40 миллионов долларов в очередном раунде финансирования. Эта компания занимается разработкой инструмента для создания микросхем, который использует пучок атомов гелия вместо света для нанесения рисунка на кремниевые пластины. По данным самой Lace Lithography, их технология позволяет создавать элементы микросхем, которые в 10 раз меньше по размеру, чем те, что производятся с помощью существующих систем литографии. Ширина луча составляет всего 0,1 нанометра, тогда как сканеры EUV компании ASML используют длину волны 13,5 нанометров.
Разработка Lace Lithography пока не достигла финальной стадии, но компания планирует запустить тестовый образец на пилотном производстве к 2029 году. Преимущество этой технологии заключается в том, что атомы не имеют дифракционного предела, в отличие от фотонной литографии, на которой основывается ASML. Такой подход позволит значительно уменьшить размер транзисторов и других элементов.
Компания называет свои системы BEUV (Beyond-EUV). Lace Lithography была основана в 2023 году физиком Бодилой Холст.